Lifting kulit
XERF
Muse Clinic · Myeongdong, Seoul
XERF
Tanya di WhatsApp sama ada rawatan ini sesuai untuk Anda, tarikh yang masih kosong dan tentang khidmat jurubahasa.
Menyalurkan tenaga haba jauh ke dalam kulit dengan RF monopolar
₩189,000dari
Harga tidak termasuk VAT 10%.
Tanya di WhatsApp sama ada rawatan ini sesuai untuk Anda, tarikh yang masih kosong dan tentang khidmat jurubahasa.
Pilih opsyen Anda
Tandakan rawatan yang Anda pertimbangkan untuk melihat jumlahnya.
Harga di halaman ini tidak termasuk VAT 10%. Ini ialah anggaran sebagai rujukan — pelan dan harga akhir ditentukan bersama doktor semasa konsultasi Anda.
Apakah ini?
XERF
XERF ialah rawatan RF monopolar yang membawa haba jauh ke dalam kulit.
Dengan menggabungkan dua frekuensi, ia menyalurkan tenaga secara selektif dari lapisan cetek hingga ke lapisan yang lebih dalam, untuk lifting semula jadi, pengetatan dan aktiviti kolagen.
Kenapa orang memilihnya
Manfaatnya untuk Anda
- 01Membantu mengatasi kulit kendur
- 02Mengaktifkan kolagen
- 03Melembutkan kedutan
- 04Memperbaharui tekstur kulit
- 05Membantu menyamaratakan ton kulit
- 06Mengecilkan liang pori
Disyorkan untuk
Rawatan ini mungkin sesuai jika…
- 01Sesiapa yang memerlukan pembaharuan kolagen
- 02Sesiapa yang ingin melembutkan garis halus dan mengecilkan liang pori
- 03Sesiapa yang mahukan lifting dengan sedikit ketidakselesaan
Perjalanan lawatan
Langkah demi langkah
- Langkah 01
Pembersihan
- Langkah 02
Rawatan XERF
Soalan
Paling kerap ditanya
- Berapa kerap ia disyorkan?
- Setiap enam bulan, dua sesi atau lebih. Selang dan bilangan sesi berbeza mengikut jenis kulit Anda.
- Apakah yang perlu saya beri perhatian selepas rawatan?
- Cuci dengan air sejuk atau suam dan gunakan pencuci yang lembut. Kemerahan, bengkak atau ketidakselesaan ringan boleh berlaku tetapi bersifat sementara. Elakkan minum alkohol berlebihan, senaman berat dan mandi air panas atau sauna selama kira-kira seminggu.
Satu gambar kulit Anda sudah cukup untuk memulakan perbualan.
Hasil dan tempoh kesan berbeza mengikut individu.